芯片清洗用水有“講究” 反滲透膜應用確保水質更“標準”

　　信息化、數字化、網絡化、智能化是當前科技、產業乃至社會變革的時代潮流。半導體產業是衡量一個國家科技發展水平和綜合國力的重要指標。

　　芯片一直是大國間貿易戰、科技戰、經濟戰的主戰場，芯片技術是各方競爭激烈的戰場制高點。在此背景下，本文分析討論了全球芯片技術未來的發展趨勢，并對我國芯片技術未來的發展提出了一些建議。芯片清洗是工藝過程中的基本要求，整個芯片生產過程中有近20%是清潔的。作為一種高精度的集成電路，對清洗用水的水質要求很高。超純水已成為行業清洗用水的“標準”水質。

　　根據超純水行業的現狀，設計了一種可以減少水垢產生的反滲透膜，該反滲透膜可以截流0.0001微米以上的物質，是一種精細的膜分離產品，可以有效截留所有溶解鹽分及分子量大于100的有機物，允許水分子通過，具有脫鹽率高、抗污染性高的特點。

　　反滲透膜在電子行業應用優勢：

　　1、反滲透的脫鹽率高，單級反滲透系統脫鹽率一般可穩定在90%以上，雙級反滲透系統脫鹽率一般可穩定在98%以上。

　　2、反滲透能有效去除細菌等微生物、有機物，以及金屬元素等無機物，出水水質優于其它方法。

　　3、減緩了源水水質波動而造成的產水水質變化，從而有利于生產中水質的穩定，這對純水產品質量的穩定有積極的作用。

　　在芯片生產過程中，超純水主要用于清洗用水和制備各種溶液。不同的芯片對水質有不同的要求。反滲透膜具有處理能力強、不易污染、使用壽命長等優點。