黑龍江某電子公司超純水反滲透膜SCW20采購項目

　　集成電路生產幾乎每道工序都需要超純水清洗，工件與水直接接觸，水質達不到標準。水中的微量雜質可能會再次污染芯片，對產品的影響不言而喻。隨著集成電路的不斷完善，集成電路生產對水污染物的要求越來越嚴格。從六十年代末期，美國五家公司提出的集成電路用純水水質指標以來，每一代集成電路都將減少1/2~1/10的雜質。美國材料實驗學會(ASTM)1983年和1990年頒布的電子水質標準已不能滿足超大型集成電路快速發展的需要。目前，ASTM提出了新的、更嚴格的水質指標。

　　膜型號：超純水反滲透膜SCW20

　　項目工藝：在預處理階段，“RO+EDI+拋光混床”工藝與傳統的超純水處理工藝基本相同。原水經嚴格預處理后，進入反滲透系統，出水立即送至EDI裝置。此時，出水已滿足一般工業超純水的要求，然后通過拋光混床對出水進行深度處理，確保出水無雜質，達到18兆歐電子級超純水標準。

　　超純水反滲透膜應用優勢：

　　1、超純水反滲透膜高脫鹽率、高抗污染，保證膜元件的穩定運行。

　　2、超純水反滲透膜對高硼、硅、鍺等金屬元素具有高去除率。

　　3、超純水反滲透膜適合超純水行業EDI系統之前作為脫鹽組件，保證EDI系統安全穩定運行，確保出水達標。

　　超純水反滲透膜可應用于電子行業、超純水行業、電廠、石油化工行業等。膜產品性能穩定，可以節省投資、降低運行費用、減少單位消耗，廣泛應用于電力、石油化工、醫藥、食品飲料、生物制藥、鋼鐵、紡織、市政及環保等領域，在海水淡化、工業純水、電子級超純水、中水回用、生物制藥、食品行業分離濃縮過程中發揮著重要的作用。