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黑龍江某電子公司超純水反滲透膜SCW20采購項目

作者:GE膜     來源:GE膜公司     發布日期:2022-01-29


  集成電路生產幾乎每道工序都需要超純水清洗,工件與水直接接觸,水質達不到標準。水中的微量雜質可能會再次污染芯片,對產品的影響不言而喻。隨著集成電路的不斷完善,集成電路生產對水污染物的要求越來越嚴格。從六十年代末期,美國五家公司提出的集成電路用純水水質指標以來,每一代集成電路都將減少1/2~1/10的雜質。美國材料實驗學會(ASTM)1983年和1990年頒布的電子水質標準已不能滿足超大型集成電路快速發展的需要。目前,ASTM提出了新的、更嚴格的水質指標。

  膜型號:超純水反滲透膜SCW20

  項目工藝:在預處理階段,“RO+EDI+拋光混床”工藝與傳統的超純水處理工藝基本相同。原水經嚴格預處理后,進入反滲透系統,出水立即送至EDI裝置。此時,出水已滿足一般工業超純水的要求,然后通過拋光混床對出水進行深度處理,確保出水無雜質,達到18兆歐電子級超純水標準。

  超純水反滲透膜應用優勢:

  1、超純水反滲透膜高脫鹽率、高抗污染,保證膜元件的穩定運行。

  2、超純水反滲透膜對高硼、硅、鍺等金屬元素具有高去除率。

  3、超純水反滲透膜適合超純水行業EDI系統之前作為脫鹽組件,保證EDI系統安全穩定運行,確保出水達標。

  超純水反滲透膜可應用于電子行業、超純水行業、電廠、石油化工行業等。膜產品性能穩定,可以節省投資、降低運行費用、減少單位消耗,廣泛應用于電力、石油化工、醫藥、食品飲料、生物制藥、鋼鐵、紡織、市政及環保等領域,在海水淡化、工業純水、電子級超純水、中水回用、生物制藥、食品行業分離濃縮過程中發揮著重要的作用。

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